изображение Система очистки фотошаблонов ТW-1000
Новинка
Производитель: 
Technovision
Страна: 
Япония
Артикул: 
TW-1000
Стоимость: 
по запросу
Под заказ
TWC-1000 - установка для очистки фотошаблонов от резиста и других загрязнений. Максимальный размер фотошаблона для данной системы составляет 1300х1700 мм.
   
Особенности TW-1000:
  • Быстрая очистка, промывка и сушка с помощью одной установки;
  • Качественная очистка с использованием специальных щеток, не зарапающих поверхность фотошаблона;
  • Вертикальное расположение шаблона минимизирует риск его повреждения при очисткеи транспортировке;
  • Идеально подходит для применения в лабораториях;
  • Поставляется с держателями для фотошаблонов (индивидуальный размер и свободный держатель), крепежи выполнены из пластика.

 Характеристики TW-1000:

  • Размер фотошаблона - 1300х1700 мм;
  • Размер установки - 17200х1200х2700 мм;

*Модель данного типа служит базой для изготовления установок по требованиям заказчика.